Europejskie Stowarzyszenie Wynalazców AEI (Association Européenne des Inventeurs, Europäischer Erfinderverband, Association of European Inventors) z siedzibą w Strasburgu podczas 8. Międzynarodowej Warszawskiej Wystawy Wynalazków (8th International Warsaw Invention Show, IWIS) przyznało nagrodę główną przedstawicielom Uniwersytetu Śląskiego z Instytutu Nauki o Materiałach Wydziału Informatyki i Nauki o Materiałach.
Do udziału w wystawie i zaprezentowania swoich wynalazków i rozwiązań zaproszone były placówki naukowo-badawcze, uczelnie, przedsiębiorstwa innowacyjne i indywidualni wynalazcy w 20 kategoriach jurorskich:
1. Ekologia, ochrona środowiska;
2. Bezpieczeństwo pracy;
3. Mechanika i inżynieria ogólna;
4. Budownictwo i modernizacja mieszkań;
5. Elektryka i energetyka;
6. Elektronika i informatyka;
7. RTV, film, telekomunikacja;
8. Sprzęt audio i foto;
9. Przemysł samochodowy, transport i bezpieczeństwo w drodze;
10. Metalurgia, towary żelazne i nieżelazne;
11. Rolnictwo, ogrodnictwa, przetwórstwo spożywcze;
12. Przemysł chemiczny;
13. Przemysł włókienniczy i odzieżowy;
14. Medycyna i biotechnologia;
15. Wzornictwo przemysłowe;
16. Wyposażenie biur;
17. Sport;
18. Kultura;
19. Czas wolny;
20. Inne.
Stopy NiTi z pamięcią kształtu należą do grupy materiałów inteligentnych cechujących się takimi właściwościami, jak: jedno- i dwukierunkowy efekt pamięci kształtu oraz zjawisko pseudosprężystości. W celu poprawy odporności korozyjnej i bioaktywności na powierzchni stopów NiTi wytwarzane są powłoki apatytowe. W zgłaszanym wynalazku opracowano sposób osadzania różnych rodzajów fosforanów wapnia na drodze elektroredukcji z nowych roztworów w temperaturze otoczenia. Przeprowadzona została optymalizacja parametrów procesu elektroderedukcji, która daje możliwość osadzania cienkich powłok fosforanowych bez konieczności spiekania wytworzonych warstw w wysokich temperaturach, co mogłoby negatywnie wpływać na odzysk pamięci kształtu.
8. Międzynarodowa Warszawska Wystawa Wynalazków odbywała się od 14 do 16 października 2014 r. na terenie Politechniki Warszawskiej.